大家好，今天小編關(guān)注到一個(gè)比較有意思的話題，就是關(guān)于反應(yīng)釜攪拌基座圖解的問題，于是小編就整理了1個(gè)相關(guān)介紹反應(yīng)釜攪拌基座圖解的解答，讓我們一起看看吧。
石墨盤用途？
在外延生長(zhǎng)領(lǐng)域，高純石墨盤是必不可少的。它在外延生長(zhǎng)中起到加熱和裝載半導(dǎo)體晶圓的作用。
目前，主流外延設(shè)備廠商配套的石墨盤在結(jié)構(gòu)上基本相同，均***用在石墨盤基座上設(shè)計(jì)一個(gè)晶圓形狀的淺凹槽的方式來裝載晶圓。
這種設(shè)計(jì)在生長(zhǎng)小尺寸的晶圓(比如說4寸半導(dǎo)體晶圓)來說是合理的，維護(hù)起來也很方便。
但對(duì)于生長(zhǎng)大尺寸的外延片，基于降低晶圓被旋轉(zhuǎn)的石墨盤甩出的風(fēng)險(xiǎn)，晶圓槽底部相對(duì)于石墨盤頂部的高度比小尺寸石墨盤大一些。
這種設(shè)計(jì)導(dǎo)致了生長(zhǎng)大尺寸外延片尤其是厚膜外延片出現(xiàn)了以下幾個(gè)問題：
1)由于石墨盤與晶圓接觸區(qū)域較多，在生長(zhǎng)厚膜外延片時(shí)，沉積的外延層會(huì)增加石墨盤與半導(dǎo)體晶圓的粘接，使得生長(zhǎng)完成后將外延片從石墨盤中無損傷取出較為困難，甚至可能導(dǎo)致裂片；
2)因晶圓邊緣處較高的臺(tái)階使得該區(qū)域存在氣體湍流，容易滯留較多的生長(zhǎng)氣體，從而使得外延片厚度和載流子濃度均勻性較差；
3)因外延爐一般***用射頻感應(yīng)加熱，熱量傳遞的方向是沿著石墨盤徑向從邊緣到中心，使得石墨盤邊緣的溫度高于中心區(qū)域的溫度，這在大尺寸外延生長(zhǎng)中尤為突出。
用途主要是能用于密封熱水、過熱蒸氣、熱傳遞流體、氨溶液、碳氫化合物、低溫液體等介質(zhì)，同時(shí)用于高溫、高壓、耐腐蝕介質(zhì)下閥門、泵、反應(yīng)釜的密封。
石墨盤主要是由各種增強(qiáng)纖維、金屬絲（鋼絲、銅絲、鎳絲、碳纖維，預(yù)氧絲、玻璃紗）等增強(qiáng)的石墨線為原料精工編織而得。適用于高溫高壓條件下的動(dòng)密封。它能用于密封熱水、過熱蒸氣、熱傳遞流體、氨溶液、碳?xì)浠衔?、低溫液體等介質(zhì)，主要用于高溫、高壓、耐腐蝕介質(zhì)下閥門、泵、反應(yīng)釜的密封 。它也是獨(dú)特的萬用密封盤。
到此，以上就是小編對(duì)于反應(yīng)釜攪拌基座圖解的問題就介紹到這了，希望介紹關(guān)于反應(yīng)釜攪拌基座圖解的1點(diǎn)解答對(duì)大家有用。
