大家好，今天小編關(guān)注到一個(gè)比較有意思的話題，就是關(guān)于2nm生產(chǎn)線的問題，于是小編就整理了3個(gè)相關(guān)介紹2nm生產(chǎn)線的解答，讓我們一起看看吧。
光刻機(jī)能刻出超過自己納米級(jí)別的芯片嗎？數(shù)億美元，用一年就扔？
一臺(tái)光刻機(jī)并不是只能勝任一個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)，而是可以勝任多個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)，決定一臺(tái)光刻機(jī)可以制造什么工藝的芯片，關(guān)鍵是看光刻機(jī)的波長(zhǎng)，比如193nm浸入式光刻機(jī)可以制造14nm乃至28nm工藝的芯片，而如果你想制造7nm和5nm芯片，那么最好就要上極紫外光刻技術(shù)了，支持EUV的光刻機(jī)波長(zhǎng)為13.5nm。
當(dāng)然，一臺(tái)光刻機(jī)的壽命也不僅僅在于一兩代芯片，如果用193nm深紫外光刻機(jī)也是可以做到10nm乃至7nm芯片的生產(chǎn)的，只是工藝難度實(shí)現(xiàn)起來相對(duì)復(fù)雜，成本較高，比如***用自對(duì)準(zhǔn)四次成型技術(shù)，就可以得到更加致密的結(jié)構(gòu)，不過因?yàn)樾酒瑢蛹?jí)的工藝變得復(fù)雜，需要更多掩模版和材料，所以用193nm光刻機(jī)生產(chǎn)7nm芯片非常不劃算，所以到了這個(gè)程度必須上EUV光刻機(jī)。
一臺(tái)先進(jìn)光刻機(jī)價(jià)格不菲，上億美元非常正常，目前手機(jī)芯片都進(jìn)入了7nm時(shí)代，難道過去用的非EUV光刻機(jī)就要淘汰了嗎？其實(shí)不會(huì)，因?yàn)椴皇撬械男酒夹枰钕冗M(jìn)的工藝制程，比如工業(yè)類的芯片，存儲(chǔ)類芯片就可以用相對(duì)落后一些的工藝進(jìn)行生產(chǎn)，這時(shí)候被“淘汰”的光刻機(jī)自然還可以發(fā)揮用途，只是用來生產(chǎn)的芯片類型不同而已，其實(shí)目前28nm和45nm芯片仍然有不小的市場(chǎng)占有率，所以即使是多年前老舊的光刻機(jī)也可以發(fā)揮很多年的作用。
你以為只有手機(jī)電腦用芯片?。侩娞菥蜎]有了？指紋鎖給你用5納米的芯片有意義嗎？似乎現(xiàn)在還有微米級(jí)的芯片生產(chǎn)呢！手機(jī)主芯片升級(jí)，設(shè)備就轉(zhuǎn)去次級(jí)芯片，再轉(zhuǎn)更低級(jí)的芯片生產(chǎn)！所有行業(yè)都是這樣升級(jí)換代的！
28納米的光刻機(jī)可以通過多重曝光技術(shù)制作14納米，12納米，10納米，7納米的芯片。
中國現(xiàn)在量產(chǎn)普及的光刻機(jī)是90納米，也就是我們憑自己的光刻機(jī)可以做65納米芯片。65納米光刻機(jī)已經(jīng)成功，還沒有量產(chǎn)，如果65納米量產(chǎn)了，28納米以上芯片我們都沒問題了。
28納米光刻機(jī)我們關(guān)鍵部件都已經(jīng)突破，最好的情況一兩年內(nèi)會(huì)出產(chǎn)品，28納米光刻機(jī)突破，我們最多可以生產(chǎn)7納米的芯片。
***用多重曝光提升工藝會(huì)顯著增加成本。所以我們必須突破極紫外光刻機(jī)，希望能夠在十年之內(nèi)突破。
先需要澄清一個(gè)問題，
那就是光刻機(jī)不是以28nm，14nm，7nm這些工藝節(jié)點(diǎn)來命名的;而是以波長(zhǎng)來命名的，
例如常說的28nm，14nm工藝的光刻機(jī)一般叫193nm浸入式光刻機(jī)，而目前最先進(jìn)的7nm，5nm工藝的光刻機(jī)（只有部分工藝）就是大名鼎鼎的EUV光刻機(jī)，這里EUV的英文意思是極紫外光，波長(zhǎng)為13.5nm
接下來再回答你的問題，答案是光刻機(jī)可以刻出超過自己納米的精度（***定你說的光刻機(jī)自己的精度是指它的波長(zhǎng)）。
對(duì)于一臺(tái)193nm波長(zhǎng)的浸入式光刻機(jī)而言，其目前的極限精度是36nm，當(dāng)然這還要和一系列其他技術(shù)相配合;
而對(duì)于13.5nm波長(zhǎng)的EUV光刻機(jī)而言，2nm對(duì)它來說沒什么問題
所以光刻機(jī)可以很容易實(shí)現(xiàn)比自己波長(zhǎng)還小5倍的精度
光刻機(jī)的光學(xué)曝光系統(tǒng)是不允許設(shè)備超過自己納米級(jí)別的芯片的。
元器件種類很多，并不是所有的器件都需要最高精度的光刻機(jī)生產(chǎn)線的。一般一個(gè)大的代工廠，會(huì)布局好幾代制程工藝生產(chǎn)線。
按照對(duì)光刻機(jī)制程工藝的要求可以分為：
最高制程工藝：消費(fèi)級(jí)的主芯片，存儲(chǔ)器
中等高級(jí)制程工藝：工業(yè)類的主芯片，高精度的ADC 運(yùn)放等
低等制程工藝：模擬器件
最差等制程工藝：被動(dòng)器件
所以代工廠會(huì)根據(jù)用戶要代工的產(chǎn)品情況，來選擇用哪種產(chǎn)線更合適。最新的制程工藝上線以后，原來的就用于其他元器件的生產(chǎn)，一般不會(huì)浪費(fèi)的，對(duì)于最末端的產(chǎn)線，要么賣給低端代工廠或者拆掉，但是那時(shí)都是已經(jīng)早就收回成本了。
中國芯片如何趕上世界先進(jìn)水平？
我覺得不能和別人比科技研發(fā)速度，本身我們就是追趕的，但是我們可以比成長(zhǎng)速度，比質(zhì)量！扎扎實(shí)實(shí)地做好功課，突圍的可能性就是人有我優(yōu)；這個(gè)優(yōu)不一定是工藝制程上到1nm工藝的事情，更多是和同級(jí)別的7nm、5nm芯片對(duì)比，我可以做得更好！雖然可能到了1NM上市的時(shí)候，中國繼續(xù)主流還是7nm或者5nm；但是核心的問題就是這些芯片拿在一些應(yīng)用場(chǎng)景夠用就可以。雖然1NM是增加了芯片的運(yùn)算速度的先天條件！
近日，ASML公司光刻機(jī)的研發(fā)再傳捷報(bào)。ASML現(xiàn)在主力出貨的EUV光刻機(jī)分別是NXE：3400B和3400C，預(yù)計(jì)今年年底前，NXE：3600D將開始交付，三星和臺(tái)積電的3nm工藝制程將會(huì)主要使用這款光刻機(jī)。在3600D之后，ASML規(guī)劃的三代光刻機(jī)分別是NEXT、EXE：5000和EXE:5200，第三代光刻機(jī)的交貨時(shí)間預(yù)計(jì)在2022年以后了，大規(guī)模商業(yè)的時(shí)間甚至要到2025年前后了。但值得注意的是第三代光刻機(jī)將用在2nm工藝制程上，甚至是1nm。
但是我們也知道在今年5nm的工藝當(dāng)中，無論是蘋果的A14處理器、華為麒麟9000處理器、高通驍***88處理器都有一定的程度翻車現(xiàn)象，例如功耗控制和發(fā)熱控制的問題！所以你看天璣系列是用的6nm工藝，而后來高通發(fā)布的驍***70是7nm工藝；說明同一個(gè)時(shí)期，雖然驍***70和驍***88有點(diǎn)差別，但是差別不會(huì)那么大，說明如今的技術(shù)下制程工藝和處理器速度不會(huì)拉開太大的距離！
那么如何在制程工藝進(jìn)步緩慢的情況下，在處理性能和速度上以及對(duì)于芯片的穩(wěn)定發(fā)揮上下功夫。同時(shí)在適配相同的設(shè)備的時(shí)候，都能很好地運(yùn)行，可以稍遜一籌，但是不能沒有任何的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)，這就是我對(duì)于中國芯片的期望值！
中國不能好高騖遠(yuǎn)，當(dāng)務(wù)之急是發(fā)展芯片中高端產(chǎn)業(yè)鏈，這一步坐實(shí)了，我們就進(jìn)可攻退可守，立于不敗之地，國家的戰(zhàn)略需求和民用卡脖子問題就極大緩解了。高端芯片除了不成熟外，市場(chǎng)和戰(zhàn)略價(jià)值也相對(duì)不大不緊迫，對(duì)我們威脅不大。七納米以下只有三星和臺(tái)積電在重點(diǎn)發(fā)展，因特爾等巨頭并沒有足夠重視，也可見一斑。拿數(shù)控機(jī)床對(duì)比，我們現(xiàn)在占領(lǐng)了中高端，就顯得非常從容，高端是要發(fā)展，但已非重中之重。
目前階段不太可能，雖然我特希望中國的科技行業(yè)早日領(lǐng)先世界，但現(xiàn)實(shí)不能脫離，飯要一口一口吃，尤其是我們現(xiàn)在的基礎(chǔ)材料和基礎(chǔ)軟件問題，才是最嚴(yán)重的，一旦軟件和材料人家卡了脖子，那才是最要命的，所以現(xiàn)在科技之路任重道遠(yuǎn)，我們確實(shí)太缺少數(shù)學(xué)家，物理學(xué)家了，聯(lián)想到我們的教育問題該怎么培養(yǎng)數(shù)學(xué)天才，物理天才呢？這可能是深一步的問題。返回中芯國際，我個(gè)人認(rèn)為中國最起碼要再做一個(gè)芯片制造公司，尤其是瞄準(zhǔn)國產(chǎn)供應(yīng)鏈，國家控股不上市，保證國家安全。實(shí)際上我不太喜歡中芯國際，主要有以下幾點(diǎn):1.本次漲價(jià)，其實(shí)漲價(jià)無可厚非，也是正常的，但它除了現(xiàn)在已經(jīng)在生產(chǎn)線上的外，對(duì)已經(jīng)簽訂的合同全部漲價(jià)，這是否違反合同法？而且不管人家為此合同付了多少錢，只要沒生產(chǎn)就漲價(jià)，嚴(yán)重的違法合同法，典型的資本家也沒有幾家吧，現(xiàn)在是賣方市場(chǎng)，但如此作為會(huì)給商家及世界留下什么印象呢？2.卡脖子，以及高端光刻機(jī)沒有辦法得到，直接導(dǎo)致了中芯國際在芯片制造領(lǐng)域始終是一個(gè)二流甚至三流。3.隨著中國芯片制造供應(yīng)商的崛起，尤其是國產(chǎn)光刻機(jī)或者碳基芯片突破后，國家勢(shì)必要再造一家國家絕對(duì)控股的公司，國家的根本大計(jì)怎么能掌握在資本手里呢？所以當(dāng)中國科技崛起時(shí)，中芯國際在國內(nèi)也不會(huì)是最好的。
芯片不可能發(fā)展到1nm。因?yàn)楣柙?a href="http://www.hefeiaoquan.com/tags-z-j.html" target="_blank" class="QIHEIHQ6c2a80c173649ccf relatedlink">直徑只有0.24nm，在1nm的情況下，電子隧道效應(yīng)將使得硅不再呈現(xiàn)半導(dǎo)體性質(zhì)，無法制作成為集成電路芯片使用。
關(guān)于光刻技術(shù)與光刻機(jī)、以及中國應(yīng)該如何辦，2021年3月26日西安電子科技大學(xué)廣州研究院90周年西電校慶專題報(bào)告會(huì)上，我將有一個(gè)簡(jiǎn)單的專題發(fā)言談?wù)勛约旱目捶?，西電廣研院已發(fā)布宣傳廣告。若有機(jī)會(huì)，歡迎到場(chǎng)互動(dòng)；如果無法到場(chǎng)，也沒關(guān)系，會(huì)后，我將在《今日頭條》上就光刻技術(shù)與光刻機(jī)問題辦一個(gè)更簡(jiǎn)單一些的連續(xù)科普講座。歡迎關(guān)注。
1nm制程芯片還是預(yù)想階段。1nm柵極漏電特性能不能解決，離子注入工藝能不能跟上？光刻的衍射極限能不能克服都是未知。亞微微米級(jí)真是硅基芯片的瓶頸。
而中國高制程芯片應(yīng)該向薄膜芯片進(jìn)軍，薄膜芯片使得立體芯片成為可能。
世界最重要的技術(shù)有哪些？我國和美國分別在哪些方面在世界前列？
一、軍工技術(shù)
全球只有中國有氫彈，美國沒有。
航母，美國領(lǐng)先中國兩代，中國可能20年內(nèi)超越美國。
洲際戰(zhàn)略導(dǎo)彈，中國有東風(fēng)快遞，美國差不多，但遜色于中國。
戰(zhàn)略核潛艇，都有，中國稍遜色。
二、航天技術(shù)
中美同屬第一陣營，美國略領(lǐng)先，中國可能20年內(nèi)超越美國。
三、通訊技術(shù)
互聯(lián)網(wǎng)技術(shù)美國領(lǐng)先，衛(wèi)星導(dǎo)航技術(shù)平起平坐。
四、制藥技術(shù)，美國領(lǐng)先。
你好，這個(gè)我因?yàn)橹R(shí)方面的欠缺回答不好，我只知道美國軍事方面很強(qiáng)，我們中國的5G、移動(dòng)支付、高鐵方面很超前，當(dāng)然軍事方面也不差，別的一概不知，很慚愧，對(duì)不起，感謝邀請(qǐng)！
到此，以上就是小編對(duì)于2nm生產(chǎn)線的問題就介紹到這了，希望介紹關(guān)于2nm生產(chǎn)線的3點(diǎn)解答對(duì)大家有用。
